벨기에의 반도체 연구 허브 imec이 네덜란드 ASML의 최첨단 '하이 NA' 극자외선(EUV) 노광장비를 확보하며 차세대 반도체 개발 경쟁에 본격적으로 나선다.
18일(현지시간) 로이터통신에 따르면 imec은 이날 기자회견을 열고 약 4억달러(약 5760억원)에 달하는 ASML의 하이 NA EUV 장비를 도입했다고 밝혔다.
이 장비는 전 세계에 10여 대에 불과한 희귀 장비로, imec은 차세대 반도체 제조 공정을 산업계에 적용하기 위한 연구에서 핵심적인 입지를 다지게 됐다.
인텔, SK하이닉스 등 주요 반도체 기업들은 이르면 2027년부터 이 장비를 활용해 인공지능(AI) 로직 및 고대역폭 메모리(HBM) 칩을 생산할 계획이다.
이번에 도입된 하이 NA 장비는 imec의 25억유로(약 3조7000억원) 규모 '나노IC 파일럿 라인' 프로젝트의 핵심 장비가 될 예정이다. 이 프로젝트에는 유럽연합(EU) 칩스법을 포함해 총 14억유로의 공공 자금이 투입된다.
뤽 반 덴 호브 imec 최고경영자(CEO)는 기자회견에서 "이번 장비 확보는 글로벌 반도체 가치사슬의 중심에서 유럽의 입지를 강화하는 것"이라며 "이는 유럽의 전략적 자율성과 기술 주권의 핵심"이라고 강조했다.
ASML은 EUV 노광장비를 독점 생산하는 기업이다. '하이 NA'는 카메라의 조리개 값과 유사한 개구수(NA)를 키워 기존 장비보다 최대 66% 더 미세한 회로를 새길 수 있게 해, 칩의 속도와 에너지 효율을 높이는 기술이다.
imec은 ASML뿐만 아니라 어플라이드 머티어리얼즈, 램리서치, KLA, 도쿄일렉트론 등 주요 장비 업체들과 협력 관계를 맺고 있다. 이를 통해 차세대 장비들이 서로 호환되며 작동하는지 시험하고 개발하는 중심지 역할을 하고 있다.
앞서 ASML은 지난 2월 수년간의 테스트를 거쳐 하이 NA 장비가 상업 생산에 투입될 준비가 됐다고 밝힌 바 있다.